高真空退火爐/高溫介電

產(chan) 品型號：Huace-800G

廠商性質：生產(chan) 廠家

所在地：北京市

更新日期：2023-12-19

產(chan) 品簡介：

高真空退火爐

高真空退火爐/高溫介電設備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為(wei) 加熱源的輻射加熱爐。爐體(ti) 由鋁合金製成，紅外線反射麵拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為(wei) 加熱源的輻射加熱爐。爐體(ti) 由鋁合金製成，紅外線反射麵拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩(liang) 種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e係列有一個(ge) 橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS係列具有拋物線型反射器和適用於(yu) 片狀樣品。

高真空退火爐/高溫介電設備特點

1. 高速加熱與(yu) 冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體(ti) 可配置水冷，增設氣體(ti) 冷卻裝置，可實現快速冷卻。

2. 溫度高的精度控製

通過紅外鍍金聚焦和溫度控製器的組合使用，可以控製樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩(liang) 種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e係列有一個(ge) 橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環境下的加熱與(yu) 冷卻

高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環境，低溫（高純度惰性氣體(ti) 靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃製成。紅外線可傳(chuan) 送到加熱/冷卻室。

設備結構：

反射爐溫度控製裝置：

高速升溫時，配套的快速反應的控製裝置，本控製裝置采用可編程溫度控製器。高性能設計，響應速度快。

可選配置：

（1）幹栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小於(yu) 52db;

（2）全量程真空規：刀口法蘭(lan) 接口，真空測量範圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為(wei) 了高速加熱、設備采用PID溫度控製，同時采用移相觸發技術保證試驗溫度；

（4）根據設備上的溫度控製器輸入參數，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；

（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）可設定32個(ge) 程序、256個(ge) 步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內(nei) 置了 SCR電路，所以範圍很廣。

更多應用：

樣品腔內(nei) 徑：≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm