伟德bv网页版高溫管式爐/測試儀器

產(chan) 品型號：HCGL-1000

廠商性質：生產(chan) 廠家

所在地：北京市

更新日期：2024-10-25

產(chan) 品簡介：

產(chan) 品介紹：

    目前高溫加熱大都為(wei) 管式爐或馬弗爐，原理為(wei) 加熱絲(si) 或矽碳棒對爐體(ti) 加熱，加熱與(yu) 降溫速度慢，效率低下，也無法實現溫度的精度高的測量，加熱區域也存在不均勻的現象，伟德bv网页版開發了一種可實現高的精度，高反射率的拋物麵與(yu) 高質量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。 可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻 ，用石英管保護加熱式樣，無氣氛汙染。可在高真空，高出純度氣體(ti) 中加熱 。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

     伟德bv网页版高溫管式爐/測試儀(yi) 器提高了加熱試驗能力。 同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫(xie) 設定溫度值。從(cong) 各方麵講，都節省時間並提高實驗速度。

  伟德bv网页版高溫管式爐/測試儀(yi) 器同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻係統安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現溫度控製操作！

本試驗爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據用戶需求訂製！

設備優(you) 勢：

高速加熱與(yu) 冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體(ti) 可配置水冷係統，增設氣體(ti) 冷卻裝置，可實現快速冷卻。

溫度高的精度控製：過紅外鍍金聚焦爐和溫度控製器的組合使用，可以精確控製樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環境下的加熱與(yu) 冷卻：加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫（高純度惰性氣體(ti) 靜態或流動），操作簡單，使用石英玻璃製成。紅外線可傳(chuan) 送到加熱/冷卻室。

 應用範圍：

1. 電子材料

◆半導體(ti) 用矽化合化的PRA（加熱後急速冷卻）

◆熱源薄膜形成

◆激活離子注入後

◆矽化物的形成

2. 陶瓷與(yu) 無機材料

◆ 陶瓷基板退火爐

◆玻璃基板退火爐。

◆陶瓷張力、撓曲試驗退火爐。

3. 鋼鐵和金屬材料

◆ 薄鋼板加熱過程的數值模擬。

◆ 爐焊接模擬

◆ 高真空熱處理（1000°C以下）

◆ 大氣氣體(ti) 熔化過程

◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐

4. 複合材料

◆ 耐熱性評價(jia) 爐

◆ 無機複合材料熱循環試驗爐

5. 其它

◆ 高溫拉伸壓縮試驗爐。

◆ 分段分區控製爐

◆ 溫度梯度爐

◆ 爐氣分析

◆ 超導陶瓷退火爐