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基礎信息Product information
產品名稱：
氣氛型可調高溫加熱裝置
產(chan) 品型號：
廠商性質：生產(chan) 廠家
所在地：北京市
更新日期：2024-10-25
產(chan) 品簡介：
氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD係列/HCHD係列可以進行太陽能電池/化合物半導體(ti) 等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此係列是將紅外線反射爐和溫度控製器組合，並且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需要進行定製。
產品特性Product characteristics
| 品牌 | 華測 |
|---|
產(chan) 品介紹：
中小型高溫爐是工業(ye) 生產(chan) 與(yu) 科研中常用的設備之一。目前高溫爐基本均采用矽鉬棒、矽碳棒作為(wei) 加熱體(ti) ，升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬，且不同氣氛環境難以共用。
氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD係列/HCHD係列可以進行太陽能電池/化合物半導體(ti) 等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此係列是將紅外線反射爐和溫度控製器組合，並且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需要進行定製。
氣氛型可調高溫加熱裝置
儀(yi) 器規格：
型號 | HCTD-1400 | HCTD-1200A | HCTD-1200B |
加熱方式 | 近紅外橢圓反射 | 紅外拋物麵反射聚光 | |
溫度範圍 | RT～1400℃ | RT～1200℃ | |
熱處理區 | Φ15mm×長100mm | Φ50mm×長100mm | Φ50mm×長150mm |
均熱去（加熱時） | Φ10mm×長80mm | Φ40mm×長80mm | Φ40mm×長120mm |
冷卻方式 | 從(cong) 腔內(nei) 石英噴嘴噴出氣體(ti) | ||
儀(yi) 器特點：
設定從(cong) 高速加熱到低速加熱的廣泛條件
多步驟及循環加熱利用氣體(ti) 冷卻機構的高速氣體(ti) 淬火
可以簡單地從(cong) 電腦上輸入溫度程序設定和外部信號
可以在電腦上顯示加熱中的溫度數據
儀(yi) 器應用：
太陽能電池基板的熱處理
在氣氛環境下的熱處理
各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理
模擬器漸變熱處理
熱循環熱衝(chong) 擊試驗研究
半導體(ti) 材料的燒結和工藝退火爐
