磁控離子濺射儀是什麽？

磁控離子濺射儀(yi)

產(chan) 品介紹：

離子濺射儀(yi) 或是噴金儀(yi) 是一種利用真空鍍膜技術開發研製成高科技產(chan) 品，作為(wei) 掃描電鏡所需要的一款製樣儀(yi) 器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從(cong) 而提高試樣的導電性和導熱性。該儀(yi) 器為(wei) 全閉環真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個(ge) 傳(chuan) 感器實時監控運行狀態，保證儀(yi) 器安全穩定運行。自動磁控離子濺射儀(yi) 采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環境，高精度的濺射電源采用恒流控製來保證高精細的膜層質量。同時平麵磁控測射陰極減少等離子體(ti) 對試樣表麵的轟擊和熱效應，高性能的平麵磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米塗層為(wei) 納米級別，可滿足現代分析實驗要求。可用於(yu) 製備高質量的金屬薄膜、半導體(ti) 薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及複合薄膜、多層異質結等。

應用領域：

光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用於(yu) 光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃；

微電子領域：用於(yu) 沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化矽增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發揮著重要作用；