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日期:2024-12-12瀏覽:262次
功率器件高壓TSDC測試係統的原理是什麽(me) ?
產(chan) 品概述:
熱刺激去極化電流(TSDC)技術用於(yu) 預測EMC的HTRB性能。TSDC方法包括極化過程,在該過程中,電介質樣品暴露在高電場強度和高溫環境下。在這種情況下,電荷被分離並在介電材料電子元件中移動。盡管單個(ge) TSDC信號和HTRB性能之間的相關(guan) 性表明,極化峰值越
高,TSDC曲線越大,而HTRB性能越差,但這並不能全解釋EMC在發出強放電信號時的某些故障。因此,弛豫時間是解釋外層HTRB失效樣本的另一個(ge) 關(guan) 鍵參數。
關(guan) 於(yu) 環氧塑封料(EMC, Epoxy Molding Compound)TSDC測試技術,為(wei) 華測公司在國內(nei) 最早提及目前已被廣泛應用到更多的半導體(ti) 封裝材料及半導體(ti) 生產(chan) 研發企業(ye) 。已證明此測試方式是有效的,同時加速國產(chan) 化IGBT、MOSFET等功率器件的研發。如無錫凱華、中科科化、飛凱材料等企業(ye) 。
產(chan) 品原理:TSDC是一種研究電荷存儲(chu) 特性的實驗技術,用於(yu) 確定初始電荷和捕獲電荷的活化能以及弛豫,該方法包括一個(ge) 極化過程,其中介電樣品在高溫下暴露於(yu) 高電場強度下。在此之後,試樣在外加電場的作用下迅速進行冷卻。以這種方式,電荷被分離並固定在介電材料駐極體(ti) 內(nei) 。然後進行升溫將駐極體(ti) 內(nei) 的電荷進行釋放,同時配合測量儀(yi) 器進行測量,並為(wei) 科研人員進行分析。通過TSDC測試方法研究了EMC對功率半導體(ti) HTRB可靠性的影響,了解到EMC在高溫、高壓條件下會(hui) 發生電極化或電取向。此外,依賴於(yu) 在相應的冷卻環境中維持其極化狀態,它會(hui) 幹擾MOS-FET半導體(ti) 中反轉層的正常形成。通過TSDC試驗,我們(men) 還了解了在可靠性測試中由於(yu) 應用條件而導致的材料內(nei) 部極化電荷的數量也是一個(ge) 重要的影響因素。
產(chan) 品參數:
設備型號:HC-TSC
溫度範圍:-185 ~ 600°C
控溫精度:±0.25°C
升溫斜率:10°C/min(可設定)
測試頻率:最大電壓:±10kV
加熱方式:直流電極加熱
冷卻方式:水冷
樣品尺寸:φ<25mm,d<4mm
電極材料:黃銅或銀
夾具輔助材料 :99氧化鋁陶瓷
低溫製冷:液氮
測試功能 :TSDC
數據傳(chuan) 輸:RS-232
設備尺寸 :180 x 210 x 50mm